ウェーハN2・XCDAパージシステム

ウェーハは対応プロセスにより待ち時間が違うため、浮遊分子状汚染（AMC）やパーティクル(Particle)、湿度、酸素などからダメージする可能性があります。N2パージシステムを導入し流量可変制御で同時に浮遊分子状汚染（AMC）やパーティクル(Particle)を減らしQ-Timeに改善すること。